A、動應變時效 B、粗晶 C、腐蝕 D、熱應變時效
A、S和P B、S和N C、P和N D、N和O
A、藥皮反應區(qū)、熔滴反應區(qū) B、熔滴反應區(qū)、熔池反應區(qū) C、熔滴反應區(qū) D、熔池反應區(qū)